Le congrès Micro- and Nano-Engineering 2005 se tiendra à Vienne fin septembre 2005

La prochaine conférence internationale en micro- et nanoingénierie, ‘Micro- and Nano-Engineering 2005’, 31ème du nom, se déroulera à Vienne, au Centre de conférences d’Hofburg, du 19 au 22 septembre 2005. De 300 à 400 participants, scientifiques et ingénieurs de tous pays, y discuteront des derniers progrès quant à la fabrication et à l’utilisation industrielle de micro- et de nanostructures.

Les sessions et présentations porteront avant tout sur les techniques de lithographie : lithographie optique, lithographie par faisceau électronique, lithographie par faisceau d’ions, lithographie à nanoimpression, lithographie avec ou sans masque... Il y sera également question de laques photosensibles et de revêtements, de procédés de contrôle qualité, d’industrialisation des technologies développées, de conception de circuits intégrés et de propriété intellectuelle.

Les applications des nanotechnologies seront elles aussi à l’honneur, avec des thèmes tels que les nano-moteurs, les micro- et nanobiotechnologies, ou la fabrication d’éléments d’ordinateurs quantiques.

Les contributions (propositions d’exposés) sont à soumettre jusqu’au 12 juin 2005, sous la forme d’un résumé de deux pages au format PDF. Les inscriptions sont quant à elles ouvertes jusqu’à fin août 2005.

Référence
SC 210
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Rédaction et première publication dans le cadre du Bulletin Électronique du Service Scientifique de l’Ambassade de France à Vienne et plus précisément dans le cadre du BE Autriche numéro 62 du 2 mai 2005 (http://www.bulletins-electroniques.com/actualites/27646.htm)

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